光學(xué)玻璃清洗劑

目前，通常光學(xué)玻璃鍍膜工藝大體為：玻璃毛坯→切削→研磨→清洗→求芯→有機(jī)溶劑清洗或半水基清洗劑清洗（有些工藝中，先經(jīng)有機(jī)溶劑清洗后，再經(jīng)半水基清洗劑清洗）→市水漂洗→水基清洗劑清洗→純水漂洗→異丙醇脫水→異丙醇干燥→鍍膜。光學(xué)玻璃經(jīng)加工成型后鍍膜前，需對(duì)加工成型過程中產(chǎn)生的切削液、求芯油、保護(hù)漆、磨料、有機(jī)溶劑、灰塵及污垢腐敗后形成的色斑等污染物進(jìn)行去除，這些污染物經(jīng)有機(jī)溶劑、半水基清洗劑等清洗后，大部分污染物已被清除，但還殘留微量污染物，無法滿足光學(xué)玻璃鍍膜前的潔凈度要求。本發(fā)明所涉及的玻璃清洗劑即為上述工藝中所提及的水基清洗劑，用于光學(xué)玻璃鍍膜前的清洗。
　　我湖北海力環(huán)保科技有限公司發(fā)明的一種光學(xué)（透鏡/鏡片）用超音波清洗劑，其特征在于：由非離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、螯合劑、硅酸鹽和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為：非離子表面活性劑5~12%；陰離子表面活性劑3~6%；螯合劑1~5%；硅酸鹽4~8%；去離子水為余量，經(jīng)現(xiàn)場使用，效果良好。